Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ФИЦ ПХФ и МХ РАН
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
SPIE 22nd Annual International Symposium on Microlithography
сборник
Год издания:
1997
Том:
3050
Место издания:
Santa Clara, CA
Добавил в систему:
Голубцов Петр Викторович
Статьи, опубликованные в сборнике
1997
Importance of wafer flatness for CMP and lithography
Golubtsov P.V.
,
Zhang Y.
,
Wagner L.
в сборнике
SPIE 22nd Annual International Symposium on Microlithography
, место издания
Santa Clara, CA
, том 3050, с. 266-269