|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ФИЦ ПХФ и МХ РАН |
||
Оптимизация масок в фотолитографии с двухстадийным экспонированием доклад на конференции
- Авторы: Белокопытов Г.В., Поройкова А.А., Боголюбов А.Н.
- Международная Конференция : VI международный оптический конгресс “Оптика – XXI век” VI Конференция «Фундаментальные проблемы оптики» ФПО-2010 VI International Conference «Basic Problems of Optics» BPO 10
- Даты проведения конференции: 2010
- Тип доклада: не указан
- Докладчик: не указан
- Место проведения: Санкт-Петербург, Россия
-
Аннотация доклада:
Рассматриваются методы оптимизации масок литографии с двухстадийным экспонированием
- Добавил в систему: Боголюбов Александр Николаевич