|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ФИЦ ПХФ и МХ РАН |
||
Near Field Formation via Colloid Particles in Problems of Nanoprocessing Silicon Substratesстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 5 августа 2018 г.
- Авторы: Eremin Yu A., Sveshnikov A.G.
- Журнал: Mathematical Models and Computer Simulations
- Том: 10
- Номер: 1
- Год издания: 2018
- Первая страница: 36
- Последняя страница: 44
- DOI: 10.1134/S2070048218010040
- Аннотация: A mathematical model for the analysis of the near field intensity distribution in problems of light scattering by particles on the substrate is developed based on the Discrete Sources Method. The influence of the size and material of the particles and the refractive index of the ambient medium on the distribution of the field intensity inside the substrate near the particle is examined.
- Добавил в систему: Еремин Юрий Александрович