|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ФИЦ ПХФ и МХ РАН |
||
Cleaning substrates and subsequent deposition of coatings with coaxial magnetron dischargeстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 9 октября 2024 г.
- Авторы: Kalandiia M.R., Trofimov V.N., Yakushkin A.A., Sokolov A.V., Isakov A.O.
- Журнал: Journal of Physics: Conference Series
- Том: 1954
- Номер: 1
- Год издания: 2021
- Издательство: IOP Publishing
- Местоположение издательства: [Bristol, UK], England
- Первая страница: 012015
- Последняя страница: 012015
- DOI: 10.1088/1742-6596/1954/1/012015
- Аннотация: The created experimental magnetron sputtering system allows preliminary cleaningof the substrate surface and subsequent deposition of coatings on long cylindrical productswithin a single system using a coaxial magnetron discharge at a working gas pressure of 150mTorr. The coating discharge has reverse electrodes polarity relative to the cleaning discharge.A theoretical calculation of the discharge parameters has been carried out.
- Добавил в систему: Каландия Маргарита Раминовна