|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ФИЦ ПХФ и МХ РАН |
||
Study on surface modification of silicon using CHF3/O2 plasma for nano-imprint lithographyстатья
- Авторы: Youngkeun Kim, Sungchil Kang, Yong-Hyun Ham, Kwang-Ho Kwon, Dmitriy Alexandrovich Shutov, Hyun-Woo Lee, Jae Jong Lee, Lee-Mi Do, Kyu-Ha Baek
- Журнал: Journal of Vacuum Science and Technology A
- Том: 30
- Номер: 3
- Год издания: 2012
- Издательство: AIP Publishing
- Местоположение издательства: United States
- DOI: 10.1116/1.3695995
- Добавил в систему: Шутов Дмитрий Александрович