Создать обращение в службу поддержки пользователей
Обращение успешно создано! Ему присвоен номер 0.
На адрес Вашей электронной почты отправлено письмо о регистрации обращения. Вы можете ответить на него, если хотите предоставить дополнительную информацию или прикрепить файлы.
Произошла ошибка при создании обращения. Попробуйте перезагрузить страницу и заново создать обращение.

Подтверждение выхода

Вы действительно хотите завершить сессию?
ИСТИНА ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
  • Область интересов
  • Публикации
  • НИР и НИОКР
  • Доклады
  • Учебная работа
  • Инновации
  • Прочее
  • Все результаты
Удаление сотрудника
Вы действительно хотите удалить сотрудника?
Удалить
Vorotyntsev Dmitry A.
Vorotyntsev Dmitry A.
IstinaResearcherID (IRID): 468078191
–

Статьи в журналах

    • 2024 Challenges in scaling of IPVD deposited Ta barriers on OSG low-k films: Carbonization of Ta by CHx radicals generated through VUV-induced decomposition of carbon-containing groups
    • Ryabinkin Alexey N., Vishnevskiy Alexey S., Naumov Sergej, Serov Alexander O., Maslakov Konstantin I., Seregin Dmitry S., Vorotyntsev Dmitry A., Pal Alexander F., Rakhimova Tatyana V., Vorotilov Konstantin A., Baklanov Mikhail R.
    • в журнале Plasma Processes and Polymers, издательство Wiley - V C H Verlag GmbbH & Co. (Germany), том 21, № 5 DOI
    • 2022 Modification of Porous Ultralow-k Film by Vacuum Ultraviolet Emission
    • Zotovich Alexey I., Zyryanov Sergey M., Lopaev Dmitry V., Rezvanov Askar A., Attallah Ahmed G., Liedke Maciej O., Butterling Maik, Bogdanova Maria A., Vishnevskiy Alexey S., Seregin Dmitry S., Vorotyntsev Dmitry A., Palov Alexander P., Hirschmann Eric, Wagner Andreas, Naumov Sergej, Vorotilov Konstantin A., Rakhimova Tatyana V., Rakhimov Alexander T., Baklanov Mikhail R.
    • в журнале ACS Applied Electronic Materials, издательство American Chemical Society (United States), том 4, № 6, с. 2760-2776 DOI

ИСТИНА ФИЦ ПХФ и МХ РАН
© 2011-2025 Лаборатория 404. НИИ механики МГУ.
Правила пользования
Помощь
Создать обращение Обратная связь