–
Статьи в журналах
-
- 2024 Tantalum-doped tin oxide thin films using hollow cathode gas flow sputtering technology
- Huo Fangfang, Muydinov Ruslan, Seibertz Bertwin Bilgrim Otto, Wang Can, Hartig Manuel, Alktash Nivin, Gao Peng, Szyszka Bernd
- в журнале Heliyon, издательство Elsevier Science Publishing Company, Inc. (Нидерланды), том 10, № 10 DOI