–
Статьи в сборниках
-
- 2014 The chemistry screening for ultra low-k dielectrics plasma etching
- Zotovich A., Krishtab M., Lazzarino F., Baklanov M.R.
- в сборнике Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering, с. 944002-1-944002-10 DOI
Доклады на научных конференциях
-
- 2014 The chemistry screening for ultra low-k dielectrics plasma etching (Устный)
- Авторы: Krishtab M., Zotovich A., Lazzarino F., Baklanov M.R.
- IC MNE 2014, Россия, Звенигород, Россия, 2014
-
- 2014 Comparative analysis of the factors leading to low-k degradation during the integration process (Устный)
- Авторы: Zotovich A., Krishtab M., Lazzarino F., Baklanov M.R.
- IC MNE 2014, Россия, Звенигород, Россия, 2014